Canon анонсировала литографический сканер для 24-нм техпроцесса

Вслед за Nikon, анонсировавшей иммерсионный литографический сканер для 32-нм техпроцесса, компания Canon представила собственную разработку аналогичного типа, базирующуюся на технологии экспозиции в жестком ультрафиолете (EUV).

Оба производителя являются членами японского EUV-консорциума, однако Canon впервые показала подобную разработку, в то время как основной конкурент в лице Nikon уже некоторое время активно занимается продвижением своих достижений.

В соответствии с докладом, озвученным на конференции SPIE Advanced Litography в Сан-Хосе, анонсированная система может наносить рисунки по 24-нм техпроцессу при помощи технологии dipole illumination. К слову, задокументированные возможности системы Nikon EUV1 подтверждают ее способность «рисовать» по 30-нм техпроцессу.

Также на конференции был представлен 193-нм иммерсионный сканер FPA-7000AS7, продавать который компания Canon начнет до конца нынешнего года.